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IC-CAP 參數萃取及元件模型軟體

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IC-CAP(積體電路特性描述與分析程式)裝置建模程式為現今半導體建模,提供了強大的特性描述與分析能力。

IC-CAP 為裝置工程師和電路設計人員提供最新建模軟體,可滿足多種建模需求,包括儀器控制、資料擷取、圖形化分析、模擬、最佳化和統計分析工具。

將這些程序整合為一個有彈性的直覺式軟體環境中,以便有效率且精確地萃取使用中裝置和電路模型的參數。此外,IC-CAP 還提供為安捷倫 EEsof EDA 和其他模擬器建立模型庫的功能。

您也可以從第三方公司取得 IC-CAP 萃取模組。

按下以下連結,以取得完整資訊。

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產品資訊



為何選擇 IC-CAP?- 優越結合萃取和量測

  • 有效率、開放而且有彈性的軟體環境和萃取方法。
    • 可根據您特殊需求來自訂全方位的萃取模組。
    • 可從裝置端建立自訂模型。
    • 可連結至最常用的業界裝置和電路模擬器。
  • 針對最新的工業標準模型進行完整的 DC to RF 萃取例行程序。
    • EEsof 致力於支援未來的模型標準,提供完整的萃取解決方案(使用者介面、模型、萃取流程)。
    • IC-CAP 支援 Compact Modeling Council 最新的標準模型。
  • 簡單易用的視窗式使用者介面。
    • IC-CAP 環境可讓使用者方便地處理並與大量多樣的萃取資料互動。
    • 您可使用 Multiplot Studio 將常用的圖表分組在單一視窗中。
  • 開放型介面,適用於各種量測儀器和模擬器。
    • IC-CAP 針對最新裝置建模硬體儀器配備(DC、CV、RF、閃爍雜訊)提供儀器驅動程式。
    • 提供線上資源以建議量測系統。
  • 確保您取得最佳的萃取結果。
    • 即時全球支援客戶中心、線上資源及訓練。
    • 為裝置建模業界提供最有彈性且最精確的建模環境。

完整、精確且有效率的參數萃取環境

IC-CAP 在開放且有彈性的軟體架構下運作。所有設定和巨集都開放供使用者修改。使用參數萃取語言 (Parameter Extraction Language),您就可直接在 IC-CAP 中建立自己的模型或萃取方法。IC-CAP 的開放量測介面可讓您編寫自己的量測驅動程式,來控制採用使用者 C 語言的儀器。

再加上我們的建模系統組態,IC-CAP 為現今半導體產業提供完整的整合建模應用程式。

IC-CAP 元件及功能

裝置建模業界係由種類廣泛的技術組成。每種技術都有其自己特殊的應用焦點。安捷倫 EEsof 提供完整的模型萃取解決方案,提供您方便的使用者介面、精確模型與萃取方法。

IC-CAP 主動支援下列模型類型:

  • MOS
  • BJT
  • TFT
  • 二極體
  • HBT
  • FET
  • HEMT
  • 自訂模型開發
  • 1/f 雜訊

按下以下連結,以取得更多資訊:

展示量測專業能力

裝置建模不只是模型萃取軟體程式。建模首先始於對特定裝置做精確特性描述的量測。

IC-CAP 提供精確控制最新型 DC、CV 和 S 參數儀器配備以及與之通訊的能力。使用安捷倫 EEsof 建議的其中一項組態,可讓您直接使用 IC-CAP 控制 RF 及 DC 裝置量測,而最後產生的量測資料集即可直接萃取至 IC-CAP 中。

IC-CAP 建模軟體環境及建模系統組態承繼了安捷倫 EEsof EDA DC 及 RF 悠久的建模專業能力,因此成為許多從事主要裝置建模的工程師不二之選。

按下以下連結,以取得更多資訊:

有關更詳細的資訊 ...


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如何購買


若需要立即銷售協助 - 協助選擇最佳系統、產品配置及整合詳細資訊、需要電話協助,或現場軟體展示,或需要報價 - 請按以下連結:

組態詳細資訊

安捷倫 EEsof EDA 提供完整的硬體與軟體建模解決方案系列,並提供技術與銷售協助。

請按下列連結以取得設定 IC-CAP 參數萃取和裝置建模系統的詳細資訊,以及現有萃取模組的說明。

相關產品


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運用 Plot Optimizer 輕鬆進行最佳化操作
(5 分 59 秒)


目前版本 - IC-CAP 2006A


IC-CAP 2006:更聰明 + 彈性 + 效率 = 更佳的萃取流程!

IC-CAP 2006 版是 IC-CAP 平台最重要的版本之一,具備全新效能和多種功能。

  • IC-CAP 2006 版推出新的圖形和圖表公用程式:MultiPlot Studio。它可視覺化呈現萃取流程的詳細資訊,以提升您的建模效率和精確度。
  • 全新的 BSIM4 Toolkit 讓您將建模萃取程序大幅縮短高達 50%。
  • 首次在 Linux 平台上引入 IC-CAP。

按下以下連結,以取得完整版本資訊:

平台支援

下列為 IC-CAP 2006 支援的作業系統:

  • PC:MS Windows 2000 / XP
  • Red Hat Enterprise WS 3.x Linux
  • UNIX:HP-UX 11i、SUNOS 8、9、10。


出版與評論


Articles

新聞稿

IC-CAP 使用者的研討會文章

客戶評論和成功案例


使用者支援


線上研討會檔案

安捷倫全球 IC-CAP 使用者技術論壇線上研討會:2002 年 12 月

2002 年全球 IC-CAP 使用者技術論壇線上研討會長達 2 小時。以下提供完整的 WebEx 影片(投影片和音效)。前 3 場線上研討會長達 90 分鐘。第 4 場為 45 分鐘。此外,每組投影片都另外提供 PDF 檔格式。

此會議的內容在於提升 IC-CAP 的運用,以及分享使用 IC-CAP 的創新裝置建模和特性描述解決方案。

議程。在本次線上研討會中發表的文章如下表所示。按下列連線即可取得檢視線上研討會的 WebEx 資料檔的資訊:

WebEx 資料檔:2002 年 IC-CAP 使用者技術論壇

線上研討會:2002 年 12 月 18 日
8:00 AM - 8:45 AM

適用於 Bipolar Compact Modeling 的 HICUM Aperitif Toolkit
Dr. Bertrand Ardouin,新公司 XMOD Technologies 的創立人,法國波爾多。

PDF 檔案 (985 KB),27 張投影片。

本文包含有關雙極 HICUM 模型的進階主題,著重於在 IC-CAP 環境中的參數萃取方法。Dr. Ardouin 發表 XMOD Technologies 開發的 HICUM Aperitif 工具套件,以利從 SPICE-GP 模型順暢移轉至 HICUM 模型。

此工具套件旨在為建模工程師,針對單電晶體提供簡單易用的 HICUM 模型參數萃取例行程序,以進一步產生可擴充的模型參數。

8:45 AM - 9:30 AM

重新檢視 BSIM3 Device Modeling Package
Dr. Thomas Gneiting,Advanced Modeling Solution 創立人,德國 Stuttgart。

PDF 檔案 (684 KB),35 張投影片。

Dr. Gneiting 發佈增強版本的 BSIM3 參數萃取工具套件,其中具備下列功能:

  • 使用 IC-CAP Studio 重新設計的使用者介面。
  • 與 BSIM4 Modeling Package 相容的增強資料庫管理。
  • 可完全擴充的全新 RF 巨集模型。

提出全新微調方式,讓使用者以十分有彈性而且方便的方式,產生自己的最終最佳化。

9:30 AM - 10:00 AM

IC-CAP Studio 應用範例:Corner Model Generator
Dr. Zheng Zeng,裝置建模經理,UMC,美國加州 Sunnyvale。

PDF 檔案 (736 KB),13 張投影片。

自 2001 年推出以來,IC-CAP Studio 向來是令人振奮的新工具,因為它能讓 IC-CAP 使用者為其裝置建模程序和方法,開發自訂圖形使用者介面 (GUI)。

在其簡報中,Dr. Zheng Zeng 向我們展示絕佳設計的直覺式 Corner Model Generator,供其同事使用。它是結構良好的網路 GUI,例如,只要輕鬆按一下滑鼠即可執行 IC-CAP 函數和轉換。

使用 IC-CAP Sudio 開發的 GUI 讓 Dr. Zheng Zeng 和他的同事更容易瞭解和使用 corner model 產生程序。此範例展示了您可運用的 IC-CAP Studio 強大功能,以使用您現有的作品並幫助其他人縮短執行和瞭解程序流程的時間。

安捷倫全球 IC-CAP 使用者大會線上研討會:2001 年 12 月

2001 年全球 IC-CAP 使用者年會包含 4 場線上研討會。以下提供完整的 WebEx 影片(投影片和音效)。前 3 場線上研討會長達 90 分鐘。第 4 場為 45 分鐘。

此會議的內容在於提升 IC-CAP 的運用,以及分享使用 IC-CAP 的創新裝置建模和特性描述解決方案。

議程。在各場線上研討會中發表的文章如下表所示。按下列連線即可另外開啟視窗,取得檢視這些線上研討會的 WebEx 資料檔的資訊:

WebEx 資料檔:2001 年 IC-CAP 使用者年會

線上研討會 1:2001 年 12 月 10 日
8:00 AM - 8:45 AM

MEXTRAM 504 模型萃取 - Dr. J. C. J. Paasschens, Philips Research Laboratories,荷蘭恩多芬。

8:45 AM - 9:30 AM

使用 IC-CAP 和 ADS 模型 - Dr. Walter Curtice,W. R. Curtice Consulting,Washington Crossing,美國賓州。

線上研討會 2:2001 年 12 月 11 日
8:00 AM - 8:45 AM

EKV Model V. 2.6 和萃取方法 - Dr. Wladek Grabinski,Motorola, Inc.,瑞士日內瓦。

8:45 AM - 9:30 AM

IC-CAP BSIM4 建模 - Dr. Thomas Gneiting,Advanced Modeling Solution,德國 Stuttgart。

線上研討會 3:2002 年 12 月 18 日
8:00 AM - 8:45 AM

MOSFET SP 模型 - Professor Gennady Gildenblat,美國賓州大學。

8:45 AM - 9:30 AM

Surface-Potential Based Compact MOS Model 11 的參數萃取 - Dr. R. van Langevelde,Philips Research Laboratories,荷蘭恩多芬。

線上研討會 4:2002 年 12 月 18 日
8:00 AM - 8:45 AM

適用於 HICUM 模型參數萃取的 IC-CAP 工具套件 - Dr. Thomas Zimmer 和 Bertrand Ardouin,法國波爾多大學。

客戶教育訓練

產品說明文件


重要注意事項。除了版本注意事項及安裝與自訂指南之外,還專門為使用安捷倫 EEsof EDA KnowledgeCenter 登入的客戶提供線上版 IC-CAP 2006 使用者說明文件。僅針對之前版本提供完整的使用者說明文件。

連結:  安捷倫 EEsof EDA KnowledgeCenter:IC-CAP 2006 手冊

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